Πραγματοποιήθηκε η τελετή έναρξης της νέας ερευνητικής πλατφόρμας για χαρακτικά χαμηλού GWP

Η UNIST έχει ξεκινήσει μια νέα συνεργασία με την Foosung Co., Ltd., μια αντιπροσωπευτική εταιρεία της Ulsan, γνωστή ως ηγετική φυσιογνωμία ειδικού αερίου για βιομηχανίες ημιαγωγών.

Στις 15 Δεκεμβρίου, η UNIST ανακοίνωσε επίσημα την έναρξη της νέας κοινής ερευνητικής τους πλατφόρμας για να βοηθήσει στη μείωση των εκπομπών άνθρακα για ένα καθαρότερο μέλλον. Ο κοινός ερευνητικός σκοπός αυτού είναι η δημιουργία μιας ανοικτής κοινής ερευνητικής πλατφόρμας για την ανάπτυξη τεχνολογιών χάραξης χαμηλού δυναμικού θέρμανσης του πλανήτη (GWP). Πραγματοποιήθηκε επίσης μια τελετή ανάρτησης πινακίδων για τον εορτασμό των εγκαινίων μιας νέας ερευνητικής πλατφόρμας, δηλαδή «Foosung Co., Ltd.-UNIST Joint Research Platform.’

Η τελετή πραγματοποιήθηκε με τη σειρά μιας σύντομης παρουσίασης της κοινής ερευνητικής πλατφόρμας, των συγχαρητηρίων δηλώσεων και της τελετής ανάρτησης πινακίδων τουFoosung Co., Ltd.—UNIST Joint Research Platform.’

Μέσω αυτής της πλατφόρμας, οι δύο οργανισμοί συμφώνησαν να εμβαθύνουν τη συνεργασία στους ακόλουθους τομείς: △ Ανάπτυξη αερίου χάραξης χαμηλού GWP και συναφών τεχνολογιών, △ Ανάπτυξη τεχνολογιών διεργασιών και υλικών για ημιαγωγούς επόμενης γενιάς, △ Ανακάλυψη τεχνολογιών πηγής επόμενης γενιάς μέσω συναντήσεων ανταλλαγής τεχνολογίας μεταξύ βιομηχανίας και ακαδημαϊκής συνεργασίας, △ Κοινή χρήση ερευνητικών εγκαταστάσεων και εξοπλισμού, △ Ανταλλαγή ερευνητικού προσωπικού, △ Ανταλλαγή πληροφοριών και εμπειριών στην επιστήμη και την τεχνολογία και △ Καλλιέργεια ταλέντων.

Εν τω μεταξύ, η τελετή έναρξης του Foosung Co., Ltd.—UNIST Joint Research Platform παρευρέθηκαν ο Πρόεδρος Kook Hur της Foosung Co., Ltd., ο Αντιδήμαρχος Hyo Dae Ahn για Οικονομικές Υποθέσεις της Ulsan, ο Διευθυντής Il-Hwan Kim του Τμήματος Υποστήριξης Fine Chemical and Material Technology στο Ulsan Technopark, ο Πρόεδρος UNIST Yong Hoon Lee, ο Dean Sung Ο Youb Kim του College of Engineering, ο Dean Hongsik Jeong της UNIST Graduate School of Semiconductor Materials and Devices Engineering και ο διευθυντής Tae Joo Shin του UCRF.